曝光時間控制(曝光量的控制):在曝光過程中干膜的聚合反響并不是在霎時完成，而是經過以下過程完成。
      干膜中由于存在氧或其他有害雜質的障礙，在曝光過程中需求經過一個誘導的過程，在該過程內引發劑合成產生的游離基被氧和雜質所耗費，單體的聚合甚微。
      當誘導期一過，單體的光聚合反響很快停止，膠膜的a度疾速增加，接近于突變的水平，這就是光敏單體急驟耗費階段，這個階段在曝光過程中所占的時間比例很小。當光敏單體大局部耗費完時，就進人了單元體耗盡區，此光陰聚合反響曾經完成。
      正確控制曝光時間是取得優秀干膜抗蝕圖像十分重要的要素。當曝光缺乏時，由單體聚合不徹底，在顯影過程中，膠膜溶漲變軟，線條不明晰，色澤暗淡，以至脫膠，在蝕刻 過程中或電鍍過程中，膜起翹，滲鍍，以至零落。
      當曝光過度時，會形成難于顯影。膠膜發脆，留下殘膠等弊病。更為嚴重的是不正確的曝光將產生圖像線寬的偏向，過量的曝光會使圖形電鍍的線條變細，使印制電路板蝕刻 的線條變粗。反之，曝光缺乏使圖形電鍍的線條變粗，使印制電路板蝕刻 的線條變細。要得到正確的曝光量，就需求肯定一個最佳的曝光時間。
      曝光時間確實定.在條件允許的狀況下可采用瑞斯頓17級或斯圖費21級光密度尺來停止計算。在無光密度尺時，也可憑經歷停止察看，用逐步增加曝光時間的辦法，依據顯影后干膜的光亮水平，圖像能否明晰，圖像線寬能否與原底片相符等來肯定恰當的曝光。
      不論采用哪種辦法來肯定的曝光時間，都是樹立在燈管光強度恒定的狀況下才是有意義的。隨著燈管的老化，光強度會降低，這時原先肯定的曝光時間就應依據實踐狀況停止調整。如今一些先進的曝光設備都會運用光能量積分儀來計量曝光。其原理是當光強
      發作變化時，能自動調理曝光時間，使總曝光量堅持不變。
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